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抛光工艺与说明

光学加工中,抛光就是研磨,是精磨以后的主要工序。[)工件在精磨之后,虽然具有一定的光滑和规则的表面形状,但它还不完全透明而且表面形状也不是所要求的,需要经过抛光才能成为所要求的抛光表面。研磨抛光是获得光学表面的最主要的工序。

平面双面研磨抛光顾名思义就是对大量平面零件上下两个表面同时加工进行高速抛光。抛光中主要的是对磨盘的修正(修盘)、工艺参数、抛光液的浓度、PH值、机器的清洗等系列的掌握和理解。

抛光是零件加工中的最后工序,质量的要求很高,面对划痕、麻点、破边等系列的问题都有他的解决方法。

光学玻璃在抛光过程中及抛光下盘以后的腐蚀问题,长期以来一直影响着这些光学玻璃零件的加工质量和生产效率。例如对化学稳定性差的光学玻璃抛光液中,添加适当的pH值调节剂,减少了一系列化学稳定性差的光学玻璃在抛光过程中的腐蚀问题,显著提高了抛光表面质量和合格率,并进一步提高了光学玻璃零件加工的效率和效益及其工艺技术水平。


一 抛光的基础

(一) 抛光机理

现在的抛光可归纳为三种理论:机械磨削理论、化学作用理论、表面流动理论。三种理论在不同程度上都有一定的正确性。

1.机械磨削理论

抛光是研磨的继续,抛光与研磨的本质是相同的,都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用较细颗粒的抛光剂,所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行。由于抛光模与工件表面相当吻合,因此抛光时切向力特别大,从而使玻璃表面凸凹的微痕结构被切削掉,逐渐形成光滑的表面。

2。化学作用理论

抛光过程是在玻璃表面、抛光剂、抛光模和水的作用下,发生的错综复杂的化学过程。主要是玻璃表面发生的水解过程。

3.表面流动理论

玻璃表面由于高压和相对运动,摩擦生热致使表面产生塑性流动,凸起的部分将凹陷填平,形成光滑的抛光表面。这种理论的试验依据是:抛光表面用金刚石划成图案,然后抛掉,再用酸腐蚀,结果看到划痕再现。另一试验发现,由抛去厚度计算的抛去重量比实测的大得多,于是认为抛去的玻璃填到表面凸凹层的谷部。由此说明抛光过程是流动作用的覆盖,但这与工件抛光后有重量减轻的事实相矛盾,另外,软化点的玻璃,抛光速率低,这也可以说明这种理论的正确性,但它不适用ZK9和所有硼酸玻璃。

综上所述,抛光过程是极其复杂的,至今没有得出完善而统一的结论。但是普遍承认的观点是:机械磨削作用是基本的,化学作用是重要的,至于表面流动理论也可能存在。

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